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膜厚儀原理,X-ray測(cè)厚儀 |
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X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理
X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線,它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息,通過對(duì)X射線熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識(shí),對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來說,都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu),其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛,成為自由電子,這時(shí)原子被激發(fā)了,處于激發(fā)態(tài)。此時(shí),其他的外層電子便會(huì)填補(bǔ)這一空位,即所謂的躍遷,同時(shí)以發(fā)出X射線的形式放出能量。
由于每一種元素的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)都是特定的,它被激發(fā)后躍遷時(shí)放出的X射線的能量也是特定的,稱之為特征X射線。通過測(cè)定特征X射線的能量,便可以確定相應(yīng)元素的存在,而特征X射線的強(qiáng)弱(或者說X射線光子的多少)則代表該元素的含量。
鍍層厚度分析儀根據(jù)測(cè)量原理一般有以下五種類型:
1.磁性測(cè)厚法
適用導(dǎo)磁材料上的非導(dǎo)磁層厚度測(cè)量。導(dǎo)磁材料一般為:鋼、鐵、銀、鎳。此種方法測(cè)量精度高。
2.渦流測(cè)厚法
適用導(dǎo)電金屬上的非導(dǎo)電層厚度測(cè)量。此種方法較磁性測(cè)厚法精度低。
3.超聲波測(cè)厚法
目前國內(nèi)還沒有用此種方法測(cè)量涂鍍層厚度的,國外個(gè)別廠家有這樣的儀器,適用多層涂鍍層厚度的測(cè)量或則是以上兩種方法都無法測(cè)量的場(chǎng)合。但一般價(jià)格昂貴,測(cè)量精度也不高。
4.電解測(cè)厚法
此方法有別于以上三種,不屬于無損檢測(cè),需要破壞涂鍍層。一般精度也不高。測(cè)量起來較其他幾種麻煩。
5.放射測(cè)厚法
此種儀器價(jià)格昂貴,適用于一些特殊場(chǎng)合。
Thick800A產(chǎn)品說明、技術(shù)參數(shù)及配置
儀器介紹
Thick800A是天瑞集多年的經(jīng)驗(yàn),研發(fā)用于鍍層行業(yè)的一款儀器,可全自動(dòng)軟件操作,可多點(diǎn)測(cè)試,由軟件控制儀器的測(cè)試點(diǎn),以及移動(dòng)平臺(tái)。是一款功能強(qiáng)大的儀器,配上為其開發(fā)的軟件,在鍍層行業(yè)中可謂大展身手。
性能特點(diǎn)
滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加
良好的射線屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)
技術(shù)指標(biāo)
型號(hào):Thick 800A
元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。
同時(shí)可以分析30種以上元素,五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm
重量:90kg
X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理
江蘇天瑞儀器股份有限公司 6年
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